陶瓷喷涂工艺

陶瓷喷涂工艺

热喷涂除了碳化钨喷涂之外，陶瓷喷涂工艺也有长处，高压陶瓷喷涂工艺（HPPS）又称可控气氛陶瓷喷涂工艺（CAPS）。典型地，室压力低于0.3 MPa，并且可以采用各种气体（混合物），以利用喷雾颗粒与环境气体的反应。例如氮化钛颗粒的氮化以形成锡。

高的等离子体压力也导致热等离子体射流的第二低等离子体气体速度和FGH能量密度，这简化了传热以喷射颗粒，因此特别适合喷洒高熔点材料。然而，到目前为止，HPPS还没有得到明显的产业认可，明前主要流行使用的是金属陶瓷喷涂工艺，大多数企业用的也是金属陶瓷喷涂工艺。。

科普知识：陶瓷喷涂工艺

                                                            陶瓷喷涂法示意图

纳米陶瓷喷涂

纳米陶瓷喷涂已在控制环境中应用。一个例子是纳米陶瓷喷涂（VPS）工艺，也称为低压纳米陶瓷喷涂（LPPS）工艺。通常，在加煤操纵过程中，室压力高于2 kPa。然而，为了达到良好的惰性环境，在被惰性气体注入到所需工作压力之前，腔室被单倍地排空至大约1帕的压力。该工艺传统上用于出产热气体侵蚀防护MCRAIY涂层。它具有高密度和非常平均的特点。无氧化物微结构燃气轮机叶片低氧含量是决定性的，以实现最佳的抗氧化性。这些涂层还用作后续涂层Zr02基隔热涂层的粘结涂层。

VPS在纳米陶瓷喷涂应用领域中也很重要。例如，在各种类型的植入物上出产多孔和粗拙的钛涂层-从H到牙齿植入物。因为钛对氧和氮的亲和性极高，不能在大气中喷洒。APS羟基磷灰石，即骨材料，通过VPS处理，以实现种植体表面，为种植体和骨纤维材料之间的长期STLE连接提供最佳的先决前提。例如，用于沉积钽防侵蚀涂层，用于出产高质量溅射靶，用于从气相沉积薄膜或用于出产耐火的MET自由站立体

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