陶瓷喷涂的工艺与过程

陶瓷喷涂的工艺与过程

陶瓷喷涂物质的第四态，天然地泛起在太阳、恒星、极光和闪电中，与热喷涂相关的极高温度使得熔化或汽化宇宙中任何已知物质成为可能。因此，在1960引入陶瓷喷涂工艺是一个革命性的时刻。

热喷涂的历史。陶瓷喷涂的涂层质量远远超过先前可用的，陶瓷喷涂的灿烂：陶瓷喷涂的前沿表征技术，并且可以利用热喷涂涂层成功地使表面功能多样化，自开始以来陶瓷喷涂一直处于热喷涂技术的前沿。

迄今为止，陶瓷喷涂是最通用的热喷涂工艺，陶瓷喷涂工艺是高机能涂层，具有耐久性和可靠性。

陶瓷喷涂工艺可以应用最广泛的涂层材料，迄今为止，任何热喷涂过程，执行其他过程不能在金属基板上无穷涂覆应用。

科普知识：陶瓷喷涂的工艺与过程

陶瓷喷涂工艺的过程

陶瓷喷涂过程的灵活性来自于它能够开发足够的能量来熔化大部门粉末状的涂层原料。热喷涂喷枪利器具有一个或多个阴极（电极）和阳极（喷嘴）的腔室。跟着工艺气体流过腔室，直流电被施加到阴极，电弧旭日极旋转。强盛的电弧使它们的电子气体分子形成等离子体羽流。当不不乱的陶瓷喷涂的涂层重新回到气态时，开释出巨大的热能。原料材料被注入热气体羽流中，在熔融气体羽流被熔化并向目标衬底推进以形成涂层。

通常使用的陶瓷喷涂工艺气体是氩气、氢气、硝基和氦气，分别或两种或三种气体的混合物。与施加在电极上的电流结合使用的气体控制产生的能量的量。因为气体活动和所施加的电流可以被精确地调节，因此可以获得可重复和可猜测的涂层结果。此外，喷嘴的外形和孔尺寸、材料被注入到羽流中的点和角度以及枪到目标表面的间隔也受到控制。这提供了高度的灵活性，以开发可重复的参数，用于在非常大的范围内具有熔化温度的材料。

喷涂枪距靶部件的间隔、喷枪和靶部件的相对运动，以及部门冷却（通常是靶靶上的空气射流）保持衬底在38°C到260°C的控制温度。（100°F至500°F）。

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